中芯國際 (00981) 據報正測試中國首款國產先進芯片生產設備。外電引述知情人士透露,中芯國際正測試由上海初創公司宇量昇生產的深紫外線(DUV)光刻機。正測試的這款機器用的是浸沒式技術,類似於荷蘭光刻機巨頭艾司摩爾(美:ASML)採用的技術。
知情人士透露,中芯國際正測試一台國產的28納米(nm)DUV光刻機,並將利用「多重圖案技術」(multi-patterning)生產7納米芯片。報道指,雖然試驗初期結果令人鼓舞,但目前尚不清楚該光刻機是否及何時能夠用於芯片的量產。
至今為止,中芯國際和其他內地芯片製造商一直依賴艾司摩爾生產的設備,但近年來由於美國出口管制,獲得新設備的機會受到限制。
另外,中國仍缺乏最先進的芯片製造工具——極紫外光刻機(EUV),這種設備曾用於為英偉達(美:NVDA)等公司製造最尖端的芯片。艾司摩爾被禁止向中國出售EUV設備。